ISO 14606:2022
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ISO 14606:2022
83238
Indisponible en français

This document gives guidance and requirements on the optimization of sputter-depth profiling parameters using appropriate single-layered and multilayered reference materials, in order to achieve optimum depth resolution as a function of instrument settings in Auger electron spectroscopy, X-ray photoelectron spectroscopy and secondary ion mass spectrometry.

This document is not intended to cover the use of special multilayered systems such as delta doped layers.


Informations générales 

  •  : Publiée
     : 2022-11
  •  : 3
  •  : ISO/TC 201/SC 4 Profilage d'épaisseur
  •  :
    71.040.40 Méthodes d'analyse chimique

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