Résumé

ISO 14606:2015 gives guidance on the optimization of sputter-depth profiling parameters using appropriate single-layered and multilayered reference materials in order to achieve optimum depth resolution as a function of instrument settings in Auger electron spectroscopy, X-ray photoelectron spectroscopy and secondary ion mass spectrometry.

ISO 14606:2015 is not intended to cover the use of special multilayered systems such as delta doped layers.


Informations générales 

  • État actuel
     :  Annulée
    Date de publication
     : 2015-12
  • Edition
     : 2
  • Comité technique
     : ISO/TC 201/SC 4 Profilage d'épaisseur
  • ICS
     :
    71.040.40 Méthodes d'analyse chimique

Objectifs de développement durable

Cette norme contribue aux Objectifs de développement durable suivants :

7
Énergie propre et d'un coût abordable
9
Industrie, innovation et infrastructure

Cycle de vie


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