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Resumen

ISO 14237:2010 specifies a secondary-ion mass spectrometric method for the determination of boron atomic concentration in single-crystalline silicon using uniformly doped materials calibrated by a certified reference material implanted with boron. This method is applicable to uniformly doped boron in the concentration range from 1 x 1016 atoms/cm3 to 1 x 1020 atoms/cm3.

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Informaciones generales

  • Estado
     : Publicado
    Fecha de publicación
     : 2010-07
    Etapa
    : Norma Internacional confirmada [90.93]
  • Edición
     : 2
    Número de páginas
     : 19
  • Comité Técnico :
    ISO/TC 201/SC 6
    ICS :
    71.040.40 
  • RSS actualizaciones

Ciclo de vida

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9
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7
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