недоступно на русском языке

Текущий статус : Опубликовано

Формат Язык
PDF + ePub
Бумажный
  • CHF96
Пересчитать швейцарские франки (CHF) в ваша валюта

Тезис

This document provides guidelines for measuring the sputtered depth in sputtered depth profiling. 

The methods of sputtered depth measurement described in this document are applicable to techniques of surface chemical analysis when used in combination with ion bombardment for the removal of a part of a solid sample to a typical sputtered depth of up to several micrometres. The depth typically determined by this approach is between 1 nm to 500 µm.

Standard first page

Preview 

Вы можете ознакомиться с данным стандартом в нашей онлайн-библиотеке (OBP)

Общая информация

  • Текущий статус
     : Опубликовано
    Дата публикации
     : 2021-03
    Этап
    : Опубликование международного стандарта [60.60]
  • Версия
     : 2
  • Технический комитет :
    ISO/TC 201/SC 4
    ICS :
    71.040.40 
  • RSS обновления

Жизненный цикл

Цели в области устойчивого развития

Данный стандарт разработан для достижения следующих Цели в области устойчивого развития

7
Недорогостоящая и чистая энергия
9
Индустриализация, инновации и инфраструктура

Появились вопросы?

Ознакомьтесь с FAQ

Работа с клиентами
+41 22 749 08 88

Часы работы:
Понедельник – пятница: 09:00-12:00, 14:00-17:00 (UTC+1)

  2. Интернет-магазин
  3. Каталог стандартов
  4. ТК
  5. ISO/TC 201/SC 4
  6. ISO/TR 15969:2021