ISO 21859:2019
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ISO 21859:2019
71990
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Résumé

This document specifies a test method for plasma resistance of ceramic components in semiconductor manufacturing equipment. It is applicable to ceramic components of plasma-resistant components in dry etching chambers used in semiconductor manufacturing.

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Informations générales

  •  : Publiée
     : 2019-06
    : Norme internationale publiée [60.60]
  •  : 1
  • ISO/TC 206
    81.060.30 
  • RSS mises à jour

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